发明名称 用于确定工作盘的工作面的位置的装置和方法
摘要 本发明涉及一种用于确定双面加工机床的工作盘(12,14)的工作面(16,18)的位置的装置(10)和方法,所述装置包括光学测量装置(24),它具有辐射源、光学探测装置和分析处理装置,这些装置构造成设置在工作间隙之外,所述装置具有射束导向装置(26),该射束导向装置构造成用于至少部分导入工作间隙(20)中,并且所述射束导向装置(26)将来自辐射源射出的光学射线首先基本上平行于所述工作面(16,18)地导入工作间隙(20)中、在测量点通过至少一个偏转面(30)偏转到一个工作面(16,18)上、接收由该工作面(16,18)反射的射线并且又从所述工作间隙(20)导出而导向光学探测装置,并且所述射束导向装置(26)具有与流体供应装置相连的流体输送装置(38),利用该流体输送装置能够冲洗至少一个由光学射线在从射束导向装置(26)的出口(32)射出后在工作间隙(20)中所通过的测量区域。
申请公布号 CN102695585A 申请公布日期 2012.09.26
申请号 CN201180005098.4 申请日期 2011.01.07
申请人 彼特沃尔特斯有限公司 发明人 I·格罗特科普;W·哈贝克
分类号 B24B7/17(2006.01)I;B24B49/12(2006.01)I 主分类号 B24B7/17(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 董华林
主权项 用于确定双面加工机床的工作盘的工作面的位置的装置,所述双面加工机床特别是双面磨床,所述双面加工机床具有两个工作盘(12,14),这两个工作盘在面向彼此的工作面(16,18)之间形成工作间隙(20),用于双面加工扁平工件,并且所述两个工作盘中的至少一个工作盘能够被驱动旋转,所述装置包括光学测量装置(24),该光学测量装置具有辐射源、光学探测装置和分析处理装置,所述辐射源、光学探测装置和分析处理装置构造成设置在工作间隙(20)之外,其特征在于,所述装置具有射束导向装置(26),该射束导向装置构造成用于至少部分地导入工作间隙(20)中,所述射束导向装置(26)具有在所述射束导向装置(16)导入工作间隙(20)中时位于所述工作间隙(20)中的出口(32),用于由辐射源产生的光学射线(34),并且所述射束导向装置(16)将来自辐射源的光学射线(34)首先基本上平行于所述工作面(16,18)地导入所述工作间隙(20)中、在测量点通过至少一个偏转面(30)偏转到一个工作面(16,18)上、接收由该工作面(16,18)反射的射线并且将其又从工作间隙(20)导出而导向光学探测装置,所述分析处理装置构造成根据光学探测装置的探测结果确定所述工作面(16,18)的位置,并且所述射束导向装置(26)具有与流体供应装置相连的流体输送装置(38),利用该流体输送装置能够冲洗至少一个由光学射线(34)在从所述射束导向装置(26)的出口(32)射出后在工作间隙(20)中所通过的测量区域。
地址 德国伦茨堡