发明名称 | 电路曝光机多光源光学成像系统 | ||
摘要 | 本发明涉及光学设备领域,具体涉及一种光学成像装置。电路曝光机多光源光学成像系统,包括一光源系统、一成像系统、一成像工作板,所述光源系统的光线通过所述成像系统照向所述成像工作板。所述光源系统包括至少一光源子系统,所述光源子系统包括一发光器件、一整形透镜,所述发光器件发出的光线通过所述整形透镜整形为均匀的光线。由于采用以上技术方案,本发明结构简单、整体体积偏小,无需更换胶片,即可印刷不同规格的电路板,操作简单方便,成像印刷效果佳。 | ||
申请公布号 | CN102692824A | 申请公布日期 | 2012.09.26 |
申请号 | CN201210133399.1 | 申请日期 | 2012.04.28 |
申请人 | 上海理工大学 | 发明人 | 杨波;马鹏川 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 上海三和万国知识产权代理事务所 31230 | 代理人 | 陈伟勇 |
主权项 | 电路曝光机多光源光学成像系统,包括一光源系统、一成像系统、一成像工作板,其特征在于,所述光源系统的光线通过所述成像系统照向所述成像工作板;所述光源系统包括至少一光源子系统,所述光源子系统包括一发光器件、一整形透镜,所述发光器件发出的光线通过所述整形透镜整形为均匀的光线。 | ||
地址 | 200093 上海市杨浦区军工路516号 |