光刻装置和器件制造方法

摘要

本发明提供一种光刻装置和器件制造方法，其中光刻装置包括：用于支撑构图部件的支撑结构，构图部件用于根据理想的图案对辐射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；以及用于用液体至少部分填充投射系统与基底、或与放置在基底台上的传感器、或者与基底和传感器两者之间的空间的液体供给系统；其中，基底台还包括边缘密封构件，边缘密封构件至少部分环绕基底的边缘、或传感器的边缘、或者基底和传感器两者的边缘，并且用于提供面向投射系统基本上与基底、或传感器、或基底和传感器两者的主表面共面的主表面，其中液体供给系统向传感器和/或边缘密封构件和/或基底的局部区域提供液体。

主权项

一种光刻投射装置，包括：用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；以及用于用液体至少部分填充所述投射系统与所述基底、或与放置在所述基底台上的传感器、或者与所述基底和所述传感器两者之间的空间的液体供给系统；其特征在于，所述基底台还包括边缘密封构件，所述边缘密封构件至少部分环绕所述基底的边缘、或所述传感器的边缘、或者所述基底和所述传感器两者的边缘，并且用于提供面向所述投射系统基本上与所述基底、或所述传感器、或所述基底和所述传感器两者的主表面共面的主表面，以及其特征还在于，所述液体供给系统向所述传感器和/或所述边缘密封构件和/或所述基底的局部区域提供液体。