采用激光干涉场的共聚焦显微镜

摘要

本发明公开了采用激光干涉场的共聚焦显微镜。该共聚焦显微镜包括：激光干涉场系统、分光系统、物镜系统和成像系统，其中：激光干涉场系统，用于利用多束激光干涉产生空间周期性排列的激光干涉场；分光系统，用于将激光干涉场反射至物镜系统，并将从物镜系统透射的样品反射或激发的光透射或反射至成像系统；物镜系统，用于将激光干涉场成像至样品，并将从样品反射或激发的光透射至分光系统；成像系统，用于利用分光系统透射的样品反射或激发的光成像。本发明中，利用激光干涉元件形成空间周期分布的激光干涉场点光源阵列，从而简化了共聚焦显微镜的构造，减小了其加工的难度和成本。

主权项

一种采用激光干涉场的共聚焦显微镜，其特征在于，该共聚焦显微镜包括：激光干涉场系统、分光系统、物镜系统和成像系统，其中：所述激光干涉场系统，用于利用多束激光干涉产生空间周期性排列的激光干涉场；所述分光系统，用于将所述激光干涉场反射至物镜系统，并将从所述物镜系统透射的所述样品反射或激发的光透射或反射至成像系统；所述物镜系统，用于将所述激光干涉场成像至样品，并将从所述样品反射或激发的光透射至所述分光系统；所述成像系统，用于利用所述分光系统透射的所述样品反射或激发的光成像。