发明名称 光反射性膜的制造方法
摘要 本发明提供可以在不降低膜的透明度的情况下、防止液晶层与支撑体的结块的光反射性膜的制造方法。本发明的光反射性膜的制造方法包括以下工序:使用一个表面的表面粗糙度为4.5~25nm的支撑体、在支撑体的另一个表面上涂布含有固化性胆甾醇型液晶化合物的固化性液晶组合物的涂布工序;对所涂布的固化性液晶组合物施加热量、使固化性胆甾醇型液晶化合物取向、形成胆甾醇型液晶相的状态的取向工序;使固化性液晶组合物的固化反应进行、形成固定有胆甾醇型液晶相的光反射层的照射工序;以及使支撑体和光反射层同极地带电的带电工序。
申请公布号 CN102692664A 申请公布日期 2012.09.26
申请号 CN201210075191.9 申请日期 2012.03.21
申请人 富士胶片株式会社 发明人 田口贵雄;冲和宏
分类号 G02B5/30(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 蒋亭
主权项 一种光反射性膜的制造方法,其包括以下工序:使用一个表面的表面粗糙度Ra为4.5~25nm的支撑体,在所述支撑体的另一个表面上涂布含有固化性胆甾醇型液晶化合物的固化性液晶组合物的涂布工序;对所涂布的所述固化性液晶组合物施加热量,使所述固化性胆甾醇型液晶化合物取向,形成胆甾醇型液晶相的状态的取向工序;使所述固化性液晶组合物的固化反应进行,形成固定有胆甾醇型液晶相的光反射层的照射工序;以及使所述支撑体和所述光反射层同极地带电的带电工序。
地址 日本国东京都