发明名称 |
光刻设备、用于调平物体的方法以及光刻投影方法 |
摘要 |
一种光刻设备,配置成将图案化辐射束投影到衬底上,包括:支撑结构,配置成保持图案化物体;和测量系统,配置成探测存在于所述图案化物体的用户区域上的用户区域结构的取向和/或密度。根据前述权利要求中任一项的所述设备还包括调平信息系统,配置成通过使用所探测的所述用户区域结构的取向和/或密度产生调平信息;和调平系统,配置成基于所述调平信息定位所述图案化物体的水平位置。 |
申请公布号 |
CN101918898B |
申请公布日期 |
2012.09.26 |
申请号 |
CN200880120635.8 |
申请日期 |
2008.12.22 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
P·G·W·布辛克;A·J·A·布鲁恩斯莫;H·J·M·梅杰尔 |
分类号 |
G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F9/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种光刻设备,其配置成将图案化辐射束投影到衬底上,包括:支撑结构,其配置成保持图案化物体;测量系统,其配置成探测存在于所述图案化物体的用户区域上的用户区域结构的取向和/或密度;调平信息系统,其配置成通过使用所述探测的所述用户区域结构的取向和/或密度产生调平信息;和调平系统,其配置成基于所述调平信息定位所述图案化物体的水平位置。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |