发明名称 一步电沉积制备ZnO纳米棒阵列的方法
摘要 本发明涉及一种通过直流电沉积在透明导电玻璃上生长ZnO纳米棒阵列的方法。属于纳米光电器件制备技术领域。其步骤包括:首先,配制一定浓度的Zn(NO3)2水溶液;其次,采用直流电沉积法在导电玻璃上进行沉积;最后,对生长好的ZnO纳米棒阵列进行热处理。本发明制备ZnO纳米棒阵列的溶液配制简单,成本低廉,比以往报道过的电沉积方法都要简便,使得它更适用于大规模、低成本纳米器件的制备。通过本方法制备的ZnO纳米棒阵列直径、高度、密度可调,可用于纳米光催化器件、光伏器件等纳米器件的组装。
申请公布号 CN102691084A 申请公布日期 2012.09.26
申请号 CN201210211728.X 申请日期 2012.06.26
申请人 上海大学 发明人 任鑫;赵彬
分类号 C25D9/06(2006.01)I;C30B30/02(2006.01)I;C30B29/62(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I 主分类号 C25D9/06(2006.01)I
代理机构 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人 顾勇华
主权项 一种一步电沉积制备ZnO纳米棒阵列的方法,其特征在于具有以下的过程和步骤:a. 配制一定浓度的Zn(NO3)2水溶液:配制浓度为0.01‑0.05 mol/L的Zn(NO3)2水溶液;b. 采用直流电沉积法在ITO导电玻璃上进行沉积:电流密度在0.1‑1 mA·cm‑2,温度在75‑95 ℃,沉积采用二电极体系,两电极保持平行,间距约为2 cm,沉积时间为20‑40分钟;沉积完成后,将样品用去离子水反复清洗,去除样品上残留溶液离子;c. 对生长好的ZnO纳米棒阵列进行热处理:在150‑200 ℃进行退火处理,保温6小时,热处理气氛为空气气氛;最终制得ZnO纳米棒阵列。
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