发明名称 曝光机
摘要 本实用新型公开了一种曝光机,涉及曝光技术领域,能够提高曝光机的精确对位,包括机台和激光测长装置,激光测长装置包括激光器、反光装置、第一、第二方向测长部;所述反光装置设置在所述机台上,并包括第一、第二方向反光部;所述第一、第二方向测长部均包括至少两个激光发射接收装置;所述第一方向测长部的各激光发射接收装置接收来自所述激光器产生的激光,并将所述接收的激光发射至所述第一方向反光部,并接收经所述第一方向反光部反射后返回的激光;所述第二方向测长部的各激光发射接收装置接收来自所述激光器产生的激光,并将所述接收的激光发射至所述第二方向反光部,并接收所述第二方向反光部反射回的激光。本实用新型可用于曝光领域。
申请公布号 CN202453648U 申请公布日期 2012.09.26
申请号 CN201220098711.3 申请日期 2012.03.15
申请人 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 发明人 徐海;徐先华
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种曝光机,包括机台和激光测长装置,其特征在于,所述激光测长装置包括激光器、反光装置、第一方向测长部与第二方向测长部;所述反光装置设置在所述机台上,所述反光装置包括第一方向反光部和第二方向反光部;所述第一方向测长部与第二方向测长部均包括至少两个激光发射接收装置;所述第一方向测长部的各激光发射接收装置接收来自所述激光器产生的激光,并将所述接收的激光发射至所述第一方向反光部,并接收经所述第一方向反光部反射后返回的激光;所述第二方向测长部的各激光发射接收装置接收来自所述激光器产生的激光,并将所述接收的激光发射至所述第二方向反光部,并接收所述第二方向反光部反射回的激光。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号