发明名称 ZnO体单晶的Sb离子注入掺杂及退火激活方法
摘要 本发明公开了一种ZnO体单晶的Sb离子注入掺杂及退火激活方法,包括:采用SRIM软件程序模拟多种能量和剂量的Sb离子注入掺杂ZnO体单晶;按照SRIM模拟得到的多种能量和剂量的Sb离子对ZnO体单晶样品分别进行注入掺杂;ZnO体单晶表面沉积保护层防止Sb原子的外扩散;对Sb离子注入掺杂的ZnO体单晶样品分别进行900℃和1000℃快速退火激活,退火时间1-3分钟。利用本发明,由于离子注入可调节注入离子的能量和剂量,所以通过多种能量和剂量的Sb离子注入可精确控制掺杂的深度和浓度。
申请公布号 CN102691108A 申请公布日期 2012.09.26
申请号 CN201210189488.8 申请日期 2012.06.08
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 谢辉;赵有文
分类号 C30B31/22(2006.01)I;C30B33/02(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I 主分类号 C30B31/22(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 宋焰琴
主权项 一种ZnO体单晶的Sb离子注入掺杂及退火激活方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:采用SRIM软件程序模拟多种能量和剂量的Sb离子注入掺杂ZnO体单晶;步骤2:按照SRIM模拟得到的多种能量和剂量的Sb离子对ZnO体单晶样品分别进行注入掺杂;步骤3:ZnO体单晶表面沉积保护层防止Sb原子的外扩散;步骤4:对Sb离子注入掺杂的ZnO体单晶样品分别进行900℃和1000℃快速退火激活,退火时间1‑3分钟。
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