发明名称 |
ZnO体单晶的Sb离子注入掺杂及退火激活方法 |
摘要 |
本发明公开了一种ZnO体单晶的Sb离子注入掺杂及退火激活方法,包括:采用SRIM软件程序模拟多种能量和剂量的Sb离子注入掺杂ZnO体单晶;按照SRIM模拟得到的多种能量和剂量的Sb离子对ZnO体单晶样品分别进行注入掺杂;ZnO体单晶表面沉积保护层防止Sb原子的外扩散;对Sb离子注入掺杂的ZnO体单晶样品分别进行900℃和1000℃快速退火激活,退火时间1-3分钟。利用本发明,由于离子注入可调节注入离子的能量和剂量,所以通过多种能量和剂量的Sb离子注入可精确控制掺杂的深度和浓度。 |
申请公布号 |
CN102691108A |
申请公布日期 |
2012.09.26 |
申请号 |
CN201210189488.8 |
申请日期 |
2012.06.08 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
谢辉;赵有文 |
分类号 |
C30B31/22(2006.01)I;C30B33/02(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I |
主分类号 |
C30B31/22(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
宋焰琴 |
主权项 |
一种ZnO体单晶的Sb离子注入掺杂及退火激活方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:采用SRIM软件程序模拟多种能量和剂量的Sb离子注入掺杂ZnO体单晶;步骤2:按照SRIM模拟得到的多种能量和剂量的Sb离子对ZnO体单晶样品分别进行注入掺杂;步骤3:ZnO体单晶表面沉积保护层防止Sb原子的外扩散;步骤4:对Sb离子注入掺杂的ZnO体单晶样品分别进行900℃和1000℃快速退火激活,退火时间1‑3分钟。 |
地址 |
100083 北京市海淀区清华东路甲35号 |