在连续纤维丝／条带表面高速均匀沉积薄膜的装置

摘要

本实用新型属于薄膜制备领域，具体地说是一种在连续纤维丝/条带表面高速均匀沉积金属/化合物薄膜的装置，解决了在纤维丝/条带表面高速均匀沉积薄膜的问题。该装置由两组四面矩形或正方形非平衡态磁控靶材和两个相同的带孔遮蔽板组成的真空封闭长方体或立方体连接两个张力可控的卷绕工件转架于内的真空腔体组成。非平衡态磁控溅射靶由中频脉冲/直流电源驱动，并在封闭的长方体或立方体内产生高密度等离子体，连续纤维丝/条带直接从高密度等离子体中穿过，等离子体均匀地环绕在纤维丝/条带的周围，整个纤维丝/条带的表面同时被均匀地沉积上纳米薄膜。本实用新型可实现在纤维丝/条带材料上的高速均匀地镀膜，拓展了磁控溅射镀膜的应用范围。

主权项

一种在连续纤维丝/条带表面高速均匀沉积薄膜的装置，其特征在于，该装置为真空装置，由两组四面矩形或正方形非平衡态磁控靶材和两个相同的带孔遮蔽板组成的真空封闭长方体或立方体连接两个张力可控的卷绕工件转架于内的真空腔体组成，其中：两组四面非平衡态靶材和两个遮蔽板形成封闭的长方体或立方体空间，两组靶材由中频脉冲或直流电源驱动在封闭的长方体或立方体空间内产生的等离子体，纤维丝/条带通过两个张力可控的卷绕工件转架从封闭空间的等离子体中心穿过并在纤维丝/条带上高速均匀地镀膜；中频脉冲/直流磁控溅射电源的阴极与靶材相接，阳极和真空腔体接地。