发明名称 一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法
摘要 本发明涉及一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其包括:a)在衬底上制备钼背电极;b)在该钼背电极上制备铜铟镓硒吸收层;c)进行退火处理;d)在铜铟镓硒吸收层上制备In2Se3或ZnS缓冲层;e)在所述In2Se3或ZnS缓冲层上制备本征氧化锌高阻抗层;f)在所述本征氧化锌高阻抗层上制备氧化铟锡薄膜低阻抗层;g)在氧化铟锡薄膜低阻抗层上制备铝电极。
申请公布号 CN102694077A 申请公布日期 2012.09.26
申请号 CN201210192751.9 申请日期 2012.06.11
申请人 林刘毓;张准 发明人 林刘毓;张准
分类号 H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 代理人 王庆海
主权项 一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其包括:a)在衬底上制备钼背电极;b)在该钼背电极上制备铜铟镓硒吸收层:利用真空磁控溅射法,采用CuInxGa1‑xSe2合金靶进行溅射,设x=0的CuGaSe2合金靶为靶1,设x=0.8至0.6的CuInxGa1‑xSe2合金靶为靶2,首先以高功率密度4W/cm2至8W/cm2之间的任意高功率密度对靶1先溅射2至4分钟,接着再对靶1和靶2进行共溅射,此时对靶2进行溅射的初始功率密度为0.3W/cm2至1W/cm2之间任意的低功率密度,而对靶1进行溅射的高功率密度设置成在工作中连续递减,在对靶1和靶2进行共溅射的状态下,当对靶1进行溅射的功率密度连续递减时,与此同时对靶2进行溅射的功率密度则为连续递增,最后直至对靶1进行溅射的功率密度递减至0.3W/cm2至1W/cm2之间的任意低功率密度,对靶2进行溅射的功率密度递增至4W/cm2至8W/cm2之间的任意高功率密度,执行共溅射的时间为30至60分钟,使得铜铟镓硒吸收层中的Ga浓度形成梯度,其在该吸收层与Mo背电极接触的一侧的浓度最高,在该吸收层的相对另一侧的浓度最低;c)进行退火处理:在真空室内以快速加热方式对铜铟镓硒吸收层进行退火处理,其温度为400℃至600℃,退火时间为55至90秒;d)在铜铟镓硒吸收层上制备In2Se3或ZnS缓冲层,其厚度为80至120纳米;e)在所述In2Se3或ZnS缓冲层上制备本征氧化锌高阻抗层,其厚度为0.1至0.5微米;f)在所述本征氧化锌高阻抗层上制备氧化铟锡薄膜低阻抗层,其厚度为0.3至0.8微米;g)在氧化铟锡薄膜低阻抗层上制备铝电极。
地址 中国台湾新北市永和区福和路7巷4号4楼
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