| 发明名称 | 光致产酸剂、包括其的化学增幅抗蚀剂组合物及相关方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及光致产酸剂、包括其的化学增幅抗蚀剂组合物及相关方法。由式1或式2表示的光致产酸剂，其中R1、R2和R3各自独立地为C1-C10烷基，X为与S+形成环的C3-C20脂环烃基团，并且该脂环烃基团中的至少一个CH2可被选自S、O、NH、羰基和R5-S+A-中的至少一种代替，其中R5为C1-C10烷基，且A-为平衡离子。(式1)，(式2)。 | ||
| 申请公布号 | CN101398624B | 申请公布日期 | 2012.09.26 |
| 申请号 | CN200810165695.3 | 申请日期 | 2008.09.24 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 姜律;金学元;金然柱;崔成云;金贤友;罗惠燮;金京泽 |
| 分类号 | G03F7/028(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;C07C321/12(2006.01)I;C07D333/46(2006.01)I;C07D335/02(2006.01)I;C07D339/08(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/028(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 金拟粲 |
| 主权项 | 1.由式2表示的光致产酸剂：<img file="FSB00000818819500011.GIF" wi="280" he="405" />(式2)其中：R<sub>1</sub>为C1-C10烷基，X为与S<sup>+</sup>形成环的C3-C20脂环烃基团，并且该脂环烃基团中的至少一个CH<sub>2</sub>任选地被选自S、O、NH、羰基和R<sub>5</sub>-S<sup>+</sup>A<sup>-</sup>的至少一种代替，其中R<sub>5</sub>为C1-C10烷基，和A<sup>-</sup>为平衡离子，其中：该光致产酸剂由式5表示：<img file="FSB00000818819500012.GIF" wi="425" he="354" />(式5)p为1或2，和A<sup>-</sup>为用F或NH<sub>2</sub>取代的C1-C30有机磺酸根离子；或者该光致产酸剂由式8表示：<img file="FSB00000818819500013.GIF" wi="290" he="271" />(式8)Y为S、O或羰基，和A<sup>-</sup>为用F或NH<sub>2</sub>取代的C1-C30有机磺酸根离子；或者该光致产酸剂由式12表示：<img file="FSB00000818819500021.GIF" wi="187" he="407" />(式12)，和A<sup>-</sup>为用F或NH<sub>2</sub>取代的C1-C30有机磺酸根离子。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||