| 主权项 |
一种止滑垫之改良结构，其至少包括：一止滑垫基座，系设置于各阶梯前缘接近尖凸转角之部位，于该止滑垫基座于顶侧中段横设有一两端镂空之容置空间；一止滑垫本体，设置于该止滑垫基座之容置空间内，于该止滑垫本体顶面设有一显露于止滑垫基座外，并具凹、凸分布之防滑表面，且该防滑表面二侧边缘系分别设成向下斜削之第一、二斜面。如申请专利范围第1项所述之止滑垫之改良结构，其中该容置空间二侧边缘分别设有一朝向该容置空间弯折之第一定位部及第二定位部，另于容置空间中间部位设有一定位凸部，而该止滑垫本体于二侧边缘分别设有受该第一、二定位部夹掣之第一、二被定位部，且于该止滑垫本体底面中间部位设有一对应于该定位凸部之定位凹部。如申请专利范围第2项所述之止滑垫之改良结构，其中该止滑垫基座于容置空间之开口边缘对应于第一、二定位部之部位分别设有一凹陷高度，而该第一、二斜面外旁侧边缘分别设有一对应于该凹陷高度之垂直高度。如申请专利范围第2或3项所述之止滑垫之改良结构，其中该止滑垫基座之第二定位部系设于各阶梯后缘远离尖凸转角之部位，且该第二定位部外旁侧设有一向下顺向延伸之外斜面，且该外斜面系与第二斜面形成一衔接。如申请专利范围第2或3项所述之止滑垫之改良结构，其中该止滑垫基座之第一定位部系设于各阶梯前缘接近尖凸转角之部位，且该第一斜面系延伸至该第一定位部上方。如申请专利范围第4项所述之止滑垫之改良结构，其中该止滑垫基座之第一定位部系设于各阶梯前缘接近尖凸转角之部位，且该第一斜面系延伸至该第一定位部上方。如申请专利范围第2或3项所述之止滑垫之改良结构，其中该止滑垫基座于第一定位部外旁侧设有一遮覆于该阶梯尖凸转角部位之弯折部。如申请专利范围第4项所述之止滑垫之改良结构，其中该止滑垫基座于第一定位部外旁侧设有一遮覆于该阶梯尖凸转角部位之弯折部。 |
