重合检查系统

摘要

本发明目的在于提供可实现曝光工程的补正的单片化与高精度化之两者的重合检查系统。因此，具备：组装于由搬送容器14取出的基板10A至少经过曝光工程与显像工程回收到搬送容器为止的路径，以复数点进行经显像工程后的基板的重合检查的第1检查装置11；和配置在前述路径之外，经过第1检查装置回收到搬送容器后的基板改由该搬送容器取出时，以比第1检查装置还多的点进行该基板的重合检查的第2检查装置12；和依据第1检查装置所成检查结果与第2检查装置所成检查结果，产生曝光工程的补正用资料的产生手段(上述检查装置11、12的影像处理部)。

主权项

一种重合检查系统，特征为具备：组装于由搬送容器取出的基板至少经过曝光工程与显像工程回收到前述搬送容器为止的路径，将经前述显像工程后的前述基板的光阻图案与基底图案的重合检查，在前述基板中之复数点进行的第1检查装置；和配置在前述路径之外，将前述基板的光阻图案与基底图案的重合检查，在前述基板之中以比前述第1检查装置还多的点进行的第2检查装置；和依据前述第1检查装置所成重合检查的结果与前述第2检查装置所成重合检查的结果，产生前述曝光工程的补正用资料的产生手段；前述产生手段，系依据前述第1检查装置所成重合检查的结果，产生前述补正用资料的低次成份的同时，依据前述第2检查装置所成重合检查的结果，产生前述补正用资料的高次成份。如申请专利范围第1项记载的重合检查系统，其中前述产生手段，系藉由产生前述低次成份后，由前述第2检查装置所成重合检查的结果算出前述补正用资料的各成份，除去该各成份之中前述低次成份，产生前述高次成份。如申请专利范围第1或第2项记载的重合检查系统，其中前述第1检查装置，系组装于前述曝光工程前，涂布光阻剂，于前述曝光工程后，将前述光阻剂显像的涂布/显像装置之中，前述第2检查装置系配置在前述涂布/显像装置之外。