微影装置、校正微影装置之方法及器件制造方法

摘要

本发明揭示一种微影装置，其包含用以使用基板台上的横向镜来补偿该基板台之热畸变对该基板台之位置测量的影响之系统。提出使用各种基板台扫描轨道以及该基板台上的横向镜之局部位置及旋转之测量而校正一微影装置之方法。具有定义一横向镜之几何结构的对准标记之一双级微影装置仅在曝光台上使用以当该基板台系于测量台上时测量该横向镜之几何结构。

主权项

一种微影装置，其包括：一投影系统，其系配置用以将一图案自一图案化器件投影至一基板上；一基板台，其系建构用以支撑该基板并包含形成于该基板台之一侧边上的至少一个反射元件；一基板台位移器件，其经组态用以相对于该投影系统移动该基板台；一基板台温度监视器，其经组态用以决定该基板台之至少一部分的一温度；一搅动侦测器，其经组态用以使用由该基板台温度监视器所决定的该温度而估计该至少一个反射元件之一位置、方位或形状之至少一项的一热感应偏移；一基板台位置侦测器，其系配置用以藉由反射自该至少一个反射元件的辐射并考量藉由该搅动侦测器所估计的该至少一个反射元件之该热感应偏移而决定该基板台之一位置；以及一控制系统，其系配置用以提供一控制信号至该基板台位移器件，以沿一预定路径移动该基板台，该控制信号系根据由该基板台位置侦测器所决定的该基板台之该位置而决定。如请求项1之微影装置，其中该基板台包含形成于其横向侧上的二个实质平面反射元件并且该搅动侦测器系配置用以决定定义在该二个反射元件之间之角度中的一热感应偏移。如请求项1之微影装置，其进一步包括一储存器件，其包含校正资料，该等资料提供该基板台之至少一部分的测量温度与形成于该基板台之一侧上的一反射元件之该位置、方位或形状之至少一项中的对应偏移之间的一映射，而且其中该搅动侦测器经组态用以藉由从该校正表格撷取资料而估计该等热感应偏移。如请求项1之微影装置，其中该搅动侦测器经组态用以使用一数学模型而估计该热感应偏移，该数学模型说明预期该基板台如何随该基板台之至少一部分的该温度之一函数得以畸变。如请求项1之微影设备，其进一步包括：一液体供应系统，其经组态用以采用液体至少部分地填充该投影系统之一最后元件与该基板之间的一空间；以及一密封部件，其系配置用以实质上包含该投影系统之该最后元件与该基板之间之该空间内的该液体。一种器件制造方法，其包括：提供一基板台用以支撑一基板并具有形成于该基板台一横向侧上的至少一个反射元件；提供一基板台位移器件用以相对于一投影系统移动该基板台；决定该基板台之至少一部分的一温度；使用该决定温度估计该至少一个反射元件之该位置、方位或形状之至少一项中的一热感应偏移；藉由反射自该至少一个反射元件的辐射并考量该至少一个反射元件之一位置、方位或形状之至少一项中的该估计热感应偏移而决定该基板台之一位置；以及使用一控制系统以使用该基板台位移器件沿一预定路径移动该基板台，根据考量该至少一个反射元件之该估计偏移的该基板台之该决定位置而决定用于该控制系统的一控制信号。