| 主权项 |
一种轨道式电镀装置，包括：一输送单元，系在一架体上设置数链轮，并于各链轮间圈绕一链条，该链条的每一个链板均朝向外侧延伸有片体，该片体上设磁性元件吸附电镀物品；一电镀处理单元，具有至少一个之槽体，设于架体下方，且相对位于链条经过之处；一烘乾单元，位在电镀处理单元之后；一链条松紧度调整单元，系具延长框，穿设在架体的后端处，该延长框的二侧设抵板，并在二抵板间装设一该链轮，另在该架体二侧设凸伸板，并于抵板及凸伸板间设弹性元件，一螺杆穿设于该架体及凸伸板，令其末端抵住抵板；一卸料单元，位在烘乾单元之后，并具有一挡料段。如申请专利范围第1项所述轨道式电镀装置，其中该烘乾单元为鼓风机。如申请专利范围第1项所述轨道式电镀装置，其中该卸料单元系装设在延长框上。如申请专利范围第1或3项所述轨道式电镀装置，其中该挡料段为一板体，并成斜置状态，且在链条优先通过的一端的高度低于相对另一端的高度。如申请专利范围第1项所述轨道式电镀装置，其中该架体上对应电镀处理单元处设置链条顶升单元。如申请专利范围第5项所述轨道式电镀装置，其中该链条顶升单元包括二设在架体二侧之翼片，该二翼片上设长孔；一框架，该框架具有二臂，臂上有长孔，二固定件对应穿过该二臂之长孔及二翼片之长孔中；一调整杆螺合于框架底部处，该调整杆的顶端以一组装臂设置一链轮。如申请专利范围第1项所述轨道式电镀装置，其中该架体上对应电镀处理单元处设置链条下压单元。如申请专利范围第7项所述轨道式电镀装置，其中该链条下压单元包括二设在架体二侧之翼片，该二翼片上设长孔；一框架，该框架具有二臂，臂上有长孔，二固定件对应穿过该二臂之长孔及二翼片之长孔；一组装臂固定于框架底部，该组装臂上设置一链轮。如申请专利范围第1项所述轨道式电镀装置，其中该电镀处理单元由数个槽组成。如申请专利范围第9项所述轨道式电镀装置，其中该数个槽为脱脂槽、电镀槽及洗水槽。如申请专利范围第9或10项所述轨道式电镀装置，其中各槽下设有横向滑轨。一种轨道式电镀装置，包括：一输送单元，系在一架体上设置数链轮，并于各链轮间圈绕一链条，该链条的每一个链板均朝向外侧延伸有片体，该片体上设磁性元件吸附电镀物品；一电镀处理单元，具有至少一个之槽体，设于架体下方，且相对位于链条经过之处；一烘乾单元，位在电镀处理单元之后；一链条顶升单元，设在该架体上且对应电镀处理单元处，包括二设在架体二侧之翼片，该二翼片上设长孔；一框架，该框架具有二臂，臂上有长孔，二固定件对应穿过该二臂之长孔及二翼片之长孔中；一调整杆螺合于框架底部处，该调整杆的顶端以一组装臂设置一链轮；一卸料单元，位在烘乾单元之后，并具有一挡料段。如申请专利范围第12项所述轨道式电镀装置，其中该烘乾单元为鼓风机。如申请专利范围第12项所述轨道式电镀装置，其中该卸料单元系装设在延长框上。如申请专利范围第12或14项所述轨道式电镀装置，其中该挡料段为一板体，并成斜置状态，且在链条优先通过的一端的高度低于相对另一端的高度。如申请专利范围第12项所述轨道式电镀装置，其中该架体上对应电镀处理单元处设置链条下压单元。如申请专利范围第16项所述轨道式电镀装置，其中该链条下压单元包括二设在架体二侧之翼片，该二翼片上设长孔；一框架，该框架具有二臂，臂上有长孔，二固定件对应穿过该二臂之长孔及二翼片之长孔；一组装臂固定于框架底部，该组装臂上设置一链轮。如申请专利范围第12项所述轨道式电镀装置，其中该电镀处理单元由数个槽组成。如申请专利范围第18项所述轨道式电镀装置，其中该数个槽为脱脂槽、电镀槽及洗水槽。如申请专利范围第18或19项所述轨道式电镀装置，其中各槽下设有横向滑轨。一种轨道式电镀装置，包括：一输送单元，系在一架体上设置数链轮，并于各链轮间圈绕一链条，该链条的每一个链板均朝向外侧延伸有片体，该片体上设磁性元件吸附电镀物品；一电镀处理单元，具有至少一个之槽体，设于架体下方，且相对位于链条经过之处；一烘乾单元，位在电镀处理单元之后；一链条下压单元，设在该架体上且对应电镀处理单元处，包括二设在架体二侧之翼片，该二翼片上设长孔；一框架，该框架具有二臂，臂上有长孔，二固定件对应穿过该二臂之长孔及二翼片之长孔；一组装臂固定于框架底部，该组装臂上设置一链轮；一卸料单元，位在烘乾单元之后，并具有一挡料段。如申请专利范围第21项所述轨道式电镀装置，其中该烘乾单元为鼓风机。如申请专利范围第21项所述轨道式电镀装置，其中该卸料单元系装设在延长框上。如申请专利范围第21或23项所述轨道式电镀装置，其中该挡料段为一板体，并成斜置状态，且在链条优先通过的一端的高度低于相对另一端的高度。如申请专利范围第21项所述轨道式电镀装置，其中该电镀处理单元由数个槽组成。如申请专利范围第25项所述轨道式电镀装置，其中该数个槽为脱脂槽、电镀槽及洗水槽。如申请专利范围第25或26项所述轨道式电镀装置，其中各槽下设有横向滑轨。 |
