曝光装置、曝光方法、元件制造方法

摘要

本发明之曝光装置，系将液体供给至基板上之一部份以形成液浸区域，进而使既定图案透过该液体而形成于该基板上，其特征在于，系在该液浸区域的外周形成预备液浸区域，用以将液体的一部份保持于该基板上。配置在投影光学系统下面与基板表面间的液体，受投影光学系统与基板之相对移动影响而自投影光学系统下面剥离之现象，即能得以避免。

主权项

一种曝光装置，系将液体供给至基板上的一部份以形成第1液浸区域，透过投影光学系统与该液体而在该基板上形成既定图案之像，其特征在于：在该投影光学系统之光学元件与该基板之间形成该第1液浸区域；在该第1液浸区域的外周，在该基板上以液体的一部分形成第2液浸区域；在该投影光学系统之下端部之外周配置形成该第2液浸区域之环状之液浸区域形成构件；在该液浸区域形成构件之下面与该基板之间形成该第2液浸区域；该第2液浸区域之液体系藉由设在该液浸区域形成构件之下面之液体保持部加以保持。如申请专利范围第1项之曝光装置，其中，透过位在该投影光学系统与该基板间之液体及该投影光学系统进行该基板之曝光，以形成该既定图案；该第1液浸区域及该第2液浸区域之液体，在该投影光学系统与该基板进行相对移动之际，各区域之液体的一部分随相对移动的方向而移动至另一区域。如申请专利范围第1项之曝光装置，其中，在该液浸区域形成构件之下面形成环状之槽部；该液体保持部，系设在该槽部的外周。如申请专利范围第1项之曝光装置，其中，该液体保持部系以环状的壁部所构成。如申请专利范围第1项之曝光装置，其中，该液体保持部系由配置成大致环状之复数个突起部所构成。如申请专利范围第1项之曝光装置，其中，该液体保持部由弹性材料所形成。如申请专利范围第1项之曝光装置，其中，系设置复数个该液体保持部。如申请专利范围第1项之曝光装置，其中，于该液体保持部形成有亲液性区域。如申请专利范围第1项之曝光装置，其中，在该液体保持部的外周，设有用以回收该液体之液体回收部。如申请专利范围第4项之曝光装置，其中，在该槽部的底面，设有用以回收该液体之液体回收部。一种曝光装置，系将液体供给至基板上的一部分以形成液浸区域，透过该液体将图案像投影至基板上，据以使该基板曝光，其特征在于，具备：第1液体保持部；以及第2液体保持部；该液浸区域，具有包含该图案像之投影区域的第1区域及与该第1区域邻接、该液体能在与该第1区域之间相互移动之第2区域；该第1液体保持部界定该第1区域与该第2区域之交界；该第2液体保持部在与该第1区域不接触之侧界定该第2区域。如申请专利范围第11项之曝光装置，其中，该第2区域系形成于该第1区域之周围，且该第2区域所保持的液体量，会视曝光时该基板之移动方向而改变。如申请专利范围第11项之曝光装置，其中，该第1液体保持部与第2液体保持部中之至少一方，具备：往与该基板表面交叉之方向延伸的第1面，以及与该第1面接触、与该基板相对向的第2面。如申请专利范围第11项之曝光装置，其中，该第1液体保持部与第2液体保持部，系配置成该第2区域形成于第1区域周围，且视曝光时该基板之移动方向来规定以该第2区域保持的液体量。如申请专利范围第11项之曝光装置，其中，该液体系在该第2液体保持部与气体接触。如申请专利范围第11项之曝光装置，其中，具有配置成与该基板相对向之液体保持构件；该液体保持构件，包含该第1液体保持部与第2液体保持部，且具有槽部，该槽部系形成在该第1液体保持部与第2液体保持部之间、与该基板相对向之面上。如申请专利范围第16项之曝光装置，其中，该第1液体保持部与第2液体保持部的距离，系设定为该基板与该液体保持构件间之距离的5倍以上。如申请专利范围第16项之曝光装置，其中，于该液体保持构件，设有将液体供给至该第1液浸区域之液体供给口、或从该第1液浸区域回收该液体之液体回收部的至少一方。如申请专利范围第18项之曝光装置，其中，该液体供给口与该液体回收部的至少一方，系设在该槽部。一种曝光装置，系将液体供给至基板上的一部份以形成第1液浸区域，透过投影光学系统与该液体而在该基板上形成既定图案之像，其特征在于：在该投影光学系统之光学元件与该基板之间形成该第1液浸区域；在该第1液浸区域的外周，在该基板上以液体的一部分形成第2液浸区域；在该投影光学系统之下端部之外周配置形成该第2液浸区域之环状之液浸区域形成构件；在该液浸区域形成构件之下面与该基板之间形成该第2液浸区域；在该液浸区域形成构件之下面形成环状之槽部与配置在该槽部之外侧之环状之壁部；在该壁部之下面设有将液体供给至该基板上之供给口与回收从该供给口供给之液体之回收口。如申请专利范围第20项之曝光装置，其中，透过位在该投影光学系统与该基板间之液体及该投影光学系统进行该基板之曝光，以形成该既定图案；该第1液浸区域及该第2液浸区域之液体，在该投影光学系统与该基板进行相对移动之际，各区域之液体的一部分随相对移动的方向而移动至另一区域。如申请专利范围第20项之曝光装置，其中，该第2液浸区域的液体，系藉由与该第1液浸区域之外周隔既定间隔设置之该壁部加以保持。如申请专利范围第20项之曝光装置，其中，该壁部系由配置成大致环状之复数个突起部所构成。如申请专利范围第20项之曝光装置，其中，该壁部由弹性材料所形成。如申请专利范围第20项之曝光装置，其中，系设置复数个该壁部。如申请专利范围第20项之曝光装置，其中，于该壁部形成有亲液性区域。如申请专利范围第20项之曝光装置，其中，在该壁部的外周，设有用以回收该液体之液体回收部。一种元件制造方法，系包含微影步骤，其特征在于：于该微影步骤使用申请专利范围第1至27项中任一项之曝光装置。一种曝光方法，系将液体供给至包含投影光学系统之投影区域之基板上的一部份以在该投影光学系统与该基板之间形成第1液浸区域，透过位在该投影光学系统与该基板间之液体及该投影光学系统将图案像透影至该基板上以使该基板曝光，其特征在于：包含在配置在该投影光学系统之下端部之外周之环状之液浸区域形成构件与基板之间形成第2液浸区域之动作；在该液浸区域形成构件之下面形成环状之槽部与配置在该槽部之外侧之环状之壁部；在该壁部之下面设有将液体供给至该基板上之供给口与从该基板上回收从该供给口供给之液体之回收口。如申请专利范围第29项之曝光方法，其进一步包含以设在该壁部之外周之液体回收部回收露出至该壁部之外侧之液体之动作。如申请专利范围第30项之曝光方法，其中，一边使该基板移动于扫描方向一边使该基板上之各照射区域曝光；该液体回收部，在该扫描方向，于该液浸区域形成构件之两侧回收露出至该壁部之外侧之液体。如申请专利范围第30项之曝光方法，其中，一边使该基板移动于扫描方向一边使该基板上之各照射区域曝光；该液体回收部，在与该扫描方向垂直之非扫描方向，于该液浸区域形成构件之两侧回收露出至该壁部之外侧之液体。如申请专利范围第29至32项中任一项之曝光方法，其中，该第1液浸区域之液体与该第2液浸区域之液体系密接。一种元件制造方法，系包含微影步骤，其特征在于：于该微影步骤使用申请专利范围第29至33项中任一项之曝光方法。