涂布、显像装置及涂布、显像装置的运转方法及记忆媒体

摘要

本发明的课题是在用以对基板进行涂布、显像处理的搬送路径、及对基板只进行检査的搬送路径并存的涂布、显像装置中，削减基板徒劳无益滞在于检査模组的时间。;其解决手段是用以控制载体区块的交接手段及检査区块的基板搬送手段之控制手段会在处理区块藉由基板搬送手段将基板经由或不经由检査模组来搬送至第3或第4作业台，从搬入至上述载体区块的载体来将检査专用的基板藉由交接手段交接至第2作业台，且将基板藉由基板搬送手段来交接至检査模组，将基板检査终了后使搬送至第3作业台或第4作业台。然后，使来自处理区块的基板及来自载体的基板并行取入至检査模组，可使检査后的基板的交接目的地不限定于1个。

主权项

显像装置，其特征系具备：载体区块，其系载置有收纳复数片的基板之载体，具备在与载体之间进行基板的交接之交接手段；处理区块，其系具备：复数的处理模组，其系用以进行对从上述交接手段所被交接的基板之光阻剂的涂布及对被涂布光阻剂且被曝光的基板之显像、及用以对该等处理模组进行基板的交接之手段；检査区块，其系包含：用以进行基板的检査之复数的检査模组、及对该等检査模组进行基板的交接之基板搬送手段；第1作业台，其系藉由上述载体区块的交接手段来交接基板，为了在上述处理区块进行处理而搬出该基板；第2作业台、第3作业台及第4作业台，其系于上述载体区块的交接手段与上述检査区块的基板搬送手段之间分别进行基板的交接；及控制手段，其系用以控制上述载体区块的交接手段及上述检査区块的基板搬送手段，又，上述控制手段系具备执行第1运转模式的机能，该第1运转模式系将藉由上述处理区块所被处理的基板予以藉由上述基板搬送手段经由或不经由上述检査模组来搬送至第3或第4作业台，从搬入至上述载体区块的载体来将检査专用的基板予以藉由交接手段交接至第2作业台，且将该基板予以藉由基板搬送手段来交接至检査模组，将该基板予以检査终了后从检査模组搬送至第3作业台或第4作业台，使如此来自处理区块侧的基板及来自载体侧的基板并行取入至检査模组。如申请专利范围第1项之涂布、显像装置，其中，上述第1运转模式，系构成可对第3作业台及第4作业台的其中空着的作业台藉由上述基板搬送手段来交接基板。如申请专利范围第1或2项之涂布、显像装置，其中，上述控制手段更具备：将藉由上述处理区块所被处理的基板予以藉由上述基板搬送手段经由或不经由上述检査模组来搬送至第2、第3或第4作业台，执行将如此来自处理区块侧的基板予以专用地取入至检査区块的第2运转模式之机能，更设置选择上述第1运转模式及第2运转模式的其中一个的模式选择手段。如申请专利范围第1或2项之涂布、显像装置，其中，上述第2运转模式，系构成可对第2、第3或第4作业台的其中空着的作业台藉由上述基板搬送手段来交接基板。如申请专利范围第1或2项之涂布、显像装置，其中，在上述处理区块与检査区块之间设有第5作业台及第6作业台，上述第1作业台上的基板系藉由上述基板搬送手段来搬送至第5作业台，在处理区块所被处理的基板系经由第6作业台来交接至上述基板搬送手段。显像装置的运转方法，系运转涂布、显像装置的方法，该涂布、显像装置系具备：载体区块，其系载置有收纳复数片的基板之载体，具备在与载体之间进行基板的交接之交接手段；处理区块，其系具备：复数的处理模组，其系用以进行对从上述交接手段所被交接的基板之光阻剂的涂布及对被涂布光阻剂且被曝光的基板之显像、及用以对该等处理模组进行基板的交接之手段；检査区块，其系包含：用以进行基板的检査之复数的检査模组、及对该等检査模组进行基板的交接之基板搬送手段；第1作业台、第2作业台、第3作业台及第4作业台，其系在与上述载体区块的交接手段之间交接基板，其特征系包含实施第1运转模式的工程，该第1运转模式系使在处理区块所被处理的基板与来自载体侧的检査专用的基板并行取入至检査模组，此第1运转模式系具备：将上述载体区块的载体内的处理前的基板予以藉由交接手段来交接至第1作业台之工程；将此第1作业台上的处理前的基板予以搬送至处理区块之工程；将藉由上述处理区块所被处理的基板予以藉由上述基板搬送手段经由不经由上述检査模组来搬送至第3或第4作业台之工程；从搬入至上述载体区块的载体来将检査专用的基板予以藉由交接手段交接至第2作业台，且将该基板予以藉由基板搬送手段来交接至检査模组之工程；及将上述检査专用的基板予以检査终了后从检査模组搬送至第3作业台或第4作业台之工程。如申请专利范围第6项之涂布、显像装置的运转方法，其中，藉由上述处理区块所被处理的基板及检査专用的基板，系可对第3作业台及第4作业台的其中空着的作业台藉由上述基板搬送手段来交接基板。如申请专利范围第7项之涂布、显像装置的运转方法，其中，包含：选择上述第1运转模式、及将藉由上述处理区块所被处理的基板予以专用地取入至检査区块的第2运转模式之一方的运转模式的工程，上述第2运转模式系包含：将上述载体区块的载体内的处理前的基板予以藉由交接手段来交接至第1作业台之工程；将该第1作业台上的处理前的基板予以搬送至处理区块之工程；及将藉由上述处理区块所被处理的基板予以藉由上述基板搬送手段经由或不经由上述检査模组来搬送至第2、第3或第4作业台之工程。如申请专利范围第8项之涂布、显像装置的运转方法，其中，在上述第2运转模式中，可将藉由上述处理区块所被处理的基板予以对第2、第3或第4作业台的其中空着的作业台藉由上述基板搬送手段来交接基板。如申请专利范围第6~9项中的任一项所记载之涂布、显像装置的运转方法，其中，在上述处理区块与检査区块之间设有第5作业台及第6作业台，包含：将上述第1作业台上的基板予以藉由上述基板搬送手段来搬送至第5作业台之工程；及将在处理区块所被处理的基板予以经由第6作业台来交接至上述基板搬送手段之工程。一种记忆媒体，系记忆有使用于具备复数的处理模组的涂布、显像装置之电脑程式，该复数的处理模组系用以进行对基板之光阻剂的涂布、对被涂布光阻剂且被曝光的基板之显像，其特征为：上述电脑程式系用以实施申请专利范围第6~10项中的任一项所记载的涂布、显像装置的运转方法者。