发明名称 化学气相沉积机台
摘要 本发明系一种化学气相沉积机台,包括腔室、喷头、加热器以及高度检测计,腔室包括底面,底面包括孔洞,喷头设于腔室中且包括喷孔,加热器相对于喷孔方向设置且包括加热平台、高度调整件、底座以及支撑件,支撑件分别连接加热平台以及底座,并且加热平台位于腔室内,而底座透过支撑件穿出孔洞外露于腔室,高度检测计连接于底座上,高度检测计包括顶针,顶针顶住底面。
申请公布号 TWI372789 申请公布日期 2012.09.21
申请号 TW097102802 申请日期 2008.01.25
申请人 华亚科技股份有限公司 发明人 锺宏典;林尚珉;徐胜德
分类号 C23C16/00 主分类号 C23C16/00
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种化学气相沉积机台,包括:一腔室,包括一底面,该底面包括一孔洞;一喷头,设于该腔室中,包括一喷孔;一加热器,相对于该喷孔方向设置,该加热器包括一加热平台、二高度调整件、一底座以及一支撑件,该支撑件分别连接该加热平台以及该底座,并且该加热平台位于该腔室内,而该底座透过该支撑件穿出该孔洞外露于该腔室;以及二高度检测计,该等高度检测计连接于该底座上,每一高度检测计包括一顶针,该顶针顶住该底面。如申请专利范围第1项所述之化学气相沉积机台,其更包括一气体导管,该气体导管与该腔室连接。如申请专利范围第1项所述之化学气相沉积机台,其更包括一高度固定件,该高度固定件固定于该加热器之该底座与该腔体之该底面之间。如申请专利范围第1项所述之化学气相沉积机台,其中该加热器之该底座包括至少二相对侧边,而该等高度调整件分别设于邻近该等相对侧边上。如申请专利范围第1项所述之化学气相沉积机台,其中该加热器之该底座包括至少二相对侧边,而该等高度检测计分别设于该等相对侧边上。如申请专利范围第1项所述之化学气相沉积机台,其中该加热器之该底座包括一侧边,该侧编剧有二端部,而该等高度检测计分别设于该等端部上。如申请专利范围第1项所述之化学气相沉积机台,其中该高度检测计更包括一显示表,以提供高度数据。
地址 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路667号