| 摘要 |
<p>L'invention concerne une composition cosmétique photoréticulable, exempte de monomères réactifs de masse moléculaire inférieure à 400 g/mol comportant une ou plusieurs doubles liaisons éthyléniques : - au moins un polymère comportant des doubles liaisons éthyléniques, le nombre moyen de doubles liaisons éthyléniques par molécule de polymère étant supérieur à 1, ledit au moins un polymère comportant au moins un polymère polyéther à groupes (méth)acrylate modifié par réaction avec un groupe amino, et - au moins un photoamorceur radicalaire. L'invention concerne également un procédé de revêtement cosmétique d'ongles ou de faux-ongles utilisant une telle composition.</p> |
