发明名称 Verfahren zum Herstellen eines reflektiven optischen Bauelements für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage und derartiges Bauelement
摘要 Ein Verfahren zum Herstellen eines reflektiven optischen Bauelements (10) für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage, das ein Substrat (12), das einen Basiskörper (14) aufweist, und eine auf dem Substrat (12) angeordnete reflektierende Schicht (20) aufweist, wobei das Substrat (12) eine optisch wirksame Mikrostrukturierung (16) aufweist, weist die Schritte auf: Einbringen der Mikrostrukturierung (16) in das Substrat (12); Polieren des Substrats (12), nachdem die Mikrostrukturierung (16) in das Substrat (12) eingebracht wurde, Aufbringen der reflektierenden Schicht (20) auf das Substrat (12). Ein reflektives optisches Bauelement für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage weist entsprechend zwischen der Mikrostrukturierung und der reflektierenden Schicht eine polierte Fläche auf (1).
申请公布号 DE102011015141(A1) 申请公布日期 2012.09.20
申请号 DE20111015141 申请日期 2011.03.16
申请人 CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH;CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 KIEREY, HOLGER, DR.;SIEKMANN, HEIKO, DR.;BRESAN, ANDRE
分类号 G02B5/10;B81C1/00;G02B1/10;G02B5/18;G03F7/20 主分类号 G02B5/10
代理机构 代理人
主权项
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