镀膜方法

摘要

一种镀膜方法，提供气体源和离子源，气体源用于镀膜过程中的化学反应，离子源用于发射离子，在镀第一膜层时，使用较小的离子源强度配合较大的氧气通量，并以渐进式的方式将离子源强度慢慢增加，同时氧气通量慢慢减小，然后在某一预设的离子源强度和氧气通量时维持第一时间段，接着再将离子源强度慢慢减小，氧气通量慢慢增大，在另一预设的离子源强度和氧气通量时维持第二时间段，然后离子源强度又开始慢慢增加，氧气通量又开始慢慢减小，重复上述步骤直至镀膜完成。上述镀膜方法中利用离子源与氧气的配合，增加了膜层附着性与致密性，又利用了离子源强度的变化，降低了膜层之间的应力作用，有效的防止了膜层的破裂和脱膜，提高了膜品质。

主权项

一种镀膜方法，在镀膜过程中提供一个气体源和一个离子源，气体源用于镀膜过程中的化学反应，离子源用于发射离子，以利用离子轰击效应辅助镀膜，其特征在于：在开始镀第一层膜时，使用较小的离子源强度配合较大的氧气通量，并以渐进式的方式将离子源强度慢慢增加，同时氧气通量慢慢减小，然后在某一预设的离子源强度和氧气通量时维持第一时间段，接着再将离子源强度慢慢减小，氧气通量慢慢增大，在另一预设的离子源强度和氧气通量时维持第二时间段，然后离子源强度又开始慢慢增加，氧气通量又开始慢慢减小，重复上述步骤直至镀膜完成。