发明名称 高透明度氧化铈-氧化硅紫外线吸收薄膜的制备方法
摘要 本发明公开了高透明度氧化铈-氧化硅紫外线吸收薄膜的制备方法,是在室温下将铈的无机盐加入醇中充分搅拌,至形成透明溶液;滴入硝酸将溶液的pH值调节到1~3之间;加入有机硅,搅拌均匀;加入胶凝剂,混合均匀后在室温下搅拌形成溶胶;控制匀胶机的转速在500~2000rpm之间,将溶胶涂覆到玻璃衬底上,干燥形成氧化铈-氧化硅薄膜。本发明所得产物对可见光的透明度在80%以上,可吸收大部分的紫外线,且此薄膜对有机材料的氧化性很低。
申请公布号 CN102180599B 申请公布日期 2012.09.19
申请号 CN201110047112.9 申请日期 2011.02.28
申请人 烟台大学 发明人 崔洪涛
分类号 C03C17/23(2006.01)I 主分类号 C03C17/23(2006.01)I
代理机构 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人 李浩成
主权项 高透明度氧化铈‑氧化硅紫外线吸收薄膜的制备方法,其特征在于,步骤如下:(1)在室温下将铈的无机盐加入醇中充分搅拌,至形成铈离子为0.3~1.2M的透明溶液;(2)滴入硝酸将溶液的pH值调节到1~3之间;(3)加入有机硅,搅拌均匀;(4)加入和金属离子摩尔比率为3~12的胶凝剂,混合均匀后在室温下搅拌2~12小时形成溶胶;(5)控制匀胶机的转速在500~2000rpm之间,将溶胶涂覆到玻璃衬底上,在25~50°C之间干燥形成氧化铈‑氧化硅薄膜。
地址 264005 山东省烟台市莱山区清泉路32号