发明名称 一种N型双面背接触晶体硅太阳能电池的制备方法
摘要 本发明公开了一种N型双面背接触晶体硅太阳能电池的制备方法,包括如下步骤:(1)制绒;(2)在硅片背面的通孔方块区域设置阻挡层;所述阻挡层为二氧化硅乳胶,采用丝网印刷或喷墨的方法进行设置;所述硅片背面的通孔方块区域包括硅片背面的孔及孔的周围区域;(3)在硅片的背面进行扩磷;(4)开孔;(5)刻蚀周边结、清洗;(6)在硅片的正面和孔内进行扩硼;(7)刻蚀;(8)设置钝化减反射膜;(9)在孔内设置孔金属电极;双面印刷金属电极,烧结;即可得到N型双面背接触晶体硅太阳能电池。本发明解决了背面通孔方块区域不能掺磷的问题,在太阳能电池背面与导电孔,以及背面方块区电极之间不会形成接触漏电。
申请公布号 CN102683495A 申请公布日期 2012.09.19
申请号 CN201210166624.1 申请日期 2012.05.27
申请人 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯(中国)投资有限公司 发明人 王登志;殷涵玉;王栩生;章灵军
分类号 H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人 陶海锋;陆金星
主权项 一种N型双面背接触晶体硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1) 在N型硅片的正面和背面进行制绒;(2) 在硅片背面的通孔方块区域设置阻挡层;所述阻挡层为二氧化硅乳胶,采用丝网印刷或喷墨的方法进行设置;所述硅片背面的通孔方块区域包括硅片背面的孔及孔的周围区域;(3) 在硅片的背面进行扩磷,形成扩磷层;(4) 在硅片上开孔;(5) 刻蚀周边结、去除硅片背面的阻挡层、清洗;(6) 在硅片的正面和孔内进行扩硼,形成扩硼层;(7) 刻蚀周边结;去除硅片表面的杂质玻璃;(8) 在硅片的正面和背面设置钝化减反射膜;(9) 在孔内设置孔金属电极;双面印刷金属电极,烧结;即可得到N型双面背接触晶体硅太阳能电池。
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