| 发明名称 | 一种制作阵列部分环带光子筛匀光器的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种制作阵列部分环带光子筛匀光器的方法，该方法利用大规模集成电路工艺技术和平面光刻工艺技术实现，包括：利用电子束直写法制作出母版；通过接触式光刻法将母版图案转移到涂有光刻胶的光学玻璃上；利用感应耦合等离子刻蚀技术，将移到光学玻璃光刻胶上的图案刻蚀到光学玻璃中。利用本发明，实现了对高斯光束和其它不均匀非平面波前光束的波前平顶化，实现光束的匀光，实现接面的波前光束。 | ||
| 申请公布号 | CN102681170A | 申请公布日期 | 2012.09.19 |
| 申请号 | CN201210142241.0 | 申请日期 | 2009.09.16 |
| 申请人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明人 | 贾佳;谢长青;刘明 |
| 分类号 | G02B27/09(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G02B27/42(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/36(2006.01)I | 主分类号 | G02B27/09(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 周国城 |
| 主权项 | 一种制作阵列部分环带光子筛匀光器的方法，其特征在于，该方法利用大规模集成电路工艺技术和平面光刻工艺技术实现，包括：利用电子束直写法制作出母版；通过接触式光刻法将母版图案转移到涂有光刻胶的光学玻璃上；利用感应耦合等离子刻蚀技术，将移到光学玻璃光刻胶上的图案刻蚀到光学玻璃中。 | ||
| 地址 | 100083 北京市朝阳区北土城西路3号 | ||