发明名称 |
光敏树脂组合物、低介电常数遮光层和使用该遮光层的液晶显示装置 |
摘要 |
本发明涉及一种光敏树脂组合物,其包含可光聚合的不饱和粘合剂树脂,烯属不饱和官能化单体,聚合引发剂,黑色有机混合颜料以及溶剂,其中可光聚合的不饱和粘合剂树脂是通过使由向式(I)表示的环氧树脂中添加不饱和酸得到的环氧加合物与多元酸酐反应形成。本发明提供了一种用于遮光层的光敏树脂组合物,所述遮光层表现出用1.0/μm或更大光密度表示的改进的遮光性能,以及弹性回复率、对基材的粘附和显影边缘方面的优良性能,并且所述遮光层表现出具有高度差的高图像分辨率,其中由于曝光前后在显影剂中良好的溶解性可以形成具有10-100μm尺寸的线和点,并且其中由此形成线和点的介电常数是8F/m或更小。 |
申请公布号 |
CN102681344A |
申请公布日期 |
2012.09.19 |
申请号 |
CN201210143963.8 |
申请日期 |
2012.03.09 |
申请人 |
罗门哈斯电子材料韩国有限公司 |
发明人 |
韩淅;崔庆植;罗锺昊;柳善;李学周;尹炫珍 |
分类号 |
G03F7/032(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/032(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
郭辉 |
主权项 |
1.光敏树脂组合物,其包含可光聚合的不饱和粘合剂树脂,烯属不饱和官能化单体,聚合引发剂,黑色有机混合颜料以及溶剂,其中可光聚合的不饱和粘合剂树脂是通过使由向式(I)表示的环氧树脂中添加不饱和酸得到的环氧加合物与多元酸酐反应形成:<img file="FSA00000715754800011.GIF" wi="1843" he="434" />其中,R<sup>1</sup>到R<sup>4</sup>各自独立地是氢、C<sub>1-10</sub>烷基、C<sub>1-10</sub>烷氧基、C<sub>2-10</sub>链烯基、C<sub>6-14</sub>芳基或者卤素基团,其中所述的C<sub>1-10</sub>烷基、C<sub>1-10</sub>烷氧基、C<sub>2-10</sub>链烯基、C<sub>6-14</sub>芳基是任选被卤素取代的,R<sup>5</sup>是氢、C<sub>1-10</sub>烷基、C<sub>3-14</sub>环烷基、C<sub>1-10</sub>烷氧基、C<sub>2-10</sub>链烯基、C<sub>6-14</sub>芳基、C<sub>6-14</sub>烷基芳基或者C<sub>6-14</sub>芳基烷基,R<sup>6</sup>和R<sup>7</sup>各自独立地选自由氢、C<sub>1-10</sub>烷基、C<sub>3-14</sub>环烷基、C<sub>1-10</sub>烷氧基、C<sub>2-10</sub>链烯基、C<sub>6-14</sub>芳基、C<sub>6-14</sub>烷基芳基和C<sub>6-14</sub>芳基烷基组成的组,其中所述C<sub>1-10</sub>烷基、C<sub>3-14</sub>环烷基、C<sub>1-10</sub>烷氧基、C<sub>2-10</sub>链烯基、C<sub>6-14</sub>芳基、C<sub>6-14</sub>烷基芳基或C<sub>6-14</sub>芳基烷基任选被C<sub>1-10</sub>烷基、C<sub>1-10</sub>烷氧基、C<sub>2-10</sub>链烯基或者卤素基团所取代,并且n是0-10的整数。 |
地址 |
韩国忠清南道 |