发明名称 光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法
摘要 本发明提供一种光致抗蚀剂制造用溶剂组合物及其制造方法,在光致抗蚀剂的制造中,所述溶剂组合物对灵敏度高的肟酯类光聚合引发剂的溶解性良好,且不会损害电子材料用途的浆料组合物的特性。所述光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法的特征在于,混合包含选自下述式(A1)、(A2)、(A3)、(A4)及(A5)所示的化合物中的至少一种化合物的溶剂A和肟酯类光聚合引发剂来制成溶剂组合物(C)后,将溶剂组合物(C)及与所述溶剂A相溶的溶剂B混合得到光致抗蚀剂制造用组合物(D)。[化学式1]<img file="dda0000141574300000011.GIF" wi="1817" he="1394" />
申请公布号 CN102681340A 申请公布日期 2012.09.19
申请号 CN201210059273.4 申请日期 2012.03.08
申请人 株式会社大赛璐 发明人 铃木阳二;赤井泰之
分类号 G03F7/004(2006.01)I;C08F2/48(2006.01)N 主分类号 G03F7/004(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 张永新
主权项 1.一种光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法,其特征在于,将包含选自下述式(A1)、(A2)、(A3)、(A4)及(A5)所示的化合物中的至少一种化合物的溶剂A和肟酯类光聚合引发剂混合来制成溶剂组合物(C),然后将溶剂组合物(C)及与所述溶剂A相溶的溶剂B混合得到光致抗蚀剂制造用组合物(D),<img file="FDA0000141574280000011.GIF" wi="1817" he="1395" />上述式中,R<sup>1</sup>~R<sup>4</sup>、R<sup>1</sup>’、R<sup>2</sup>’相同或不同,分别为C<sub>1-2</sub>的烷基,R<sup>1</sup>和R<sup>3</sup>、或R<sup>2</sup>和R<sup>4</sup>任选相互键合而分别形成环;R<sup>5</sup>和R<sup>6</sup>相互键合而形成4~8元环,环可以分支而具有侧链;R<sup>5</sup>’和R<sup>6</sup>’相互键合而形成3~7元环,环可以分支而具有侧链;R<sup>7</sup>和R<sup>8</sup>相互键合而形成3~7元环,环可以分支而具有侧链。
地址 日本大阪府