一种导电膜、其制备方法和应用

摘要

本发明适用于光电材料技术领域，提供了一种导电膜，其制备方法和应用。该导电膜制备方法包括：将三氧化二铝、二氧化硅掺杂于氧化锌混合，烧结作为靶材；所述混合物中三氧化二铝的质量百分含量为0.5％～3％，所述二氧化硅的质量百分含量为0.5％-1.5％，余量为所述氧化锌；将所述靶材装入磁控溅射腔体内，所述磁控溅射中在垂直于溅射粒子飞行方向施加线圈匝数为50N～500N，励磁电流为0.1A～5A的电磁场，得到导电膜。采用本发明的制备方法能够提高导电膜的结晶质量，降低电阻率。

主权项

一种导电膜制备方法，包括如下步骤：将三氧化二铝、二氧化硅掺杂于氧化锌混合，烧结作为靶材；所述混合物中三氧化二铝的质量百分含量为0.5％～3％，所述二氧化硅的质量百分含量为0.5％‑1.5％，余量为所述氧化锌；将所述靶材装入磁控溅射腔体内，抽真空至1.0×10‑3Pa～1.0×10‑5Pa，设置工作压强为0.2Pa～1.5Pa，以氢气与惰性气体混合气体为工作气体，其中，氢气的体积百分含量为1％～10％，气体流量15sccm～25sccm，衬底温度为300℃～650℃，所述磁控溅射中在垂直于溅射粒子飞行方向施加线圈匝数为50N～500N，励磁电流为0.1A～5A的电磁场，得到导电膜。