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发明名称 Method for fabricating a dual workfunction semiconductor device and the device made thereof
摘要
申请公布号 EP2112687(B1) 申请公布日期 2012.09.19
申请号 EP20080075619 申请日期 2008.07.11
申请人 IMEC;TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. 发明人 CHANG, SHOU-ZEN;YU, HONG YU
分类号 H01L21/28;H01L21/8238;H01L29/49;H01L29/51 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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