发明名称 图案化植入用的步进遮罩方法
摘要 揭示一种移动遮罩以执行衬底的图案化植入的改良方法。所述遮罩具有多个孔隙,且置放于离子源与所述衬底之间。在将所述衬底暴露于离子束之后,将所述遮罩相对于所述衬底指引至新位置且执行后续植入步骤。可经由选择孔隙大小以及形状、指引距离以及植入步骤的数目来产生多种植入图案。在一些实施例中,所述植入图案包含重掺杂水平条带,其中较轻掺杂区域介于所述条带之间。在一些实施例中,所述植入图案包含重掺杂区域的栅格。在其他实施例中,所述植入图案适合于与汇流排结构一起使用。
申请公布号 CN102687245A 申请公布日期 2012.09.19
申请号 CN201080046602.0 申请日期 2010.10.19
申请人 瓦里安半导体设备公司 发明人 班杰明·B·里欧登;尼可拉斯·P·T·贝特曼;查尔斯·T·卡尔森
分类号 H01L21/266(2006.01)I 主分类号 H01L21/266(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 臧建明
主权项 一种将图案植入至衬底中的方法,包括:在所述衬底与离子源之间置放具有至少一个孔隙的遮罩;将所述衬底暴露于所述离子源,藉此将离子植入于与所述孔隙对准的所述衬底的第一区域中;在第一方向上相对于所述衬底移动所述遮罩,以使得所述孔隙与所述衬底的第二区域对准;以及将所述衬底暴露于所述离子源,藉此将离子植入于所述衬底的所述第二区域中,藉此所述第一区域的部分与所述第二区域的部分重叠,从而产生重植入区域。
地址 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡都利路35号