| 发明名称 | 含哌嗪乙氧基修饰基团的酞菁金属配合物及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了含哌嗪乙氧基修饰基团的酞菁金属配合物及其制备方法，属于光动力药物或光敏剂制备领域。本发明所述化合物具有以下有利于在生物医药领域应用的特点：两亲性,吸收光谱红移至更加有利于穿透人体组织的波长处，光敏产生活性氧的能力高。本发明的制备方法简单，具备显著的经济和社会效益。 | ||
| 申请公布号 | CN102675325A | 申请公布日期 | 2012.09.19 |
| 申请号 | CN201210176672.9 | 申请日期 | 2012.06.01 |
| 申请人 | 福州大学 | 发明人 | 黄剑东;张洪鹏;冬梅 |
| 分类号 | C07D487/22(2006.01)I;A61K41/00(2006.01)I;A61K31/409(2006.01)I;A61P35/00(2006.01)I;A61P31/10(2006.01)I;A61P31/04(2006.01)I | 主分类号 | C07D487/22(2006.01)I |
| 代理机构 | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人 | 蔡学俊 |
| 主权项 | 1.一种非周边四取代的酞菁金属配合物，其特征在于：其结构式如下：<img file="2012101766729100001DEST_PATH_IMAGE002.GIF" wi="194" he="194" />，上式中，M代表金属离子，R代表取代基团，四个取代基团均处于酞菁环的非周边位置，称a位，即1(4)，8(11)，15(18)，22(25)位置，其中M为Zn<sup>2+</sup>、Co<sup>2+</sup>、Ni<sup>2+</sup>、Fe<sup>2+</sup>或Cu<sup>2+</sup>，取代基团R为：<img file="2012101766729100001DEST_PATH_IMAGE004.GIF" wi="208" he="41" />。 | ||
| 地址 | 350108 福建省福州市闽侯县上街镇大学城学园路2号福州大学新区 | ||