使用掩模提供图案化基底的方法

摘要

本发明描述了一种制备具有图案化掩模层的基底的方法，所述图案化掩模层具有诸如重复条纹的精细特征。所述方法包括以下步骤：形成基底，所述基底的第一主表面上具有带预定图案的转移层；提供在所述第一主表面上具有所述转移层的所述基底；提供具有主体和多个接触部分的结构化工具，所述接触部分的杨氏模量介于约0.5Gpa至约30Gpa之间；加热所述结构化工具或所述基底；使所述转移层与所述结构化工具接触；冷却所述转移层；并且将所述结构化工具从所述转移层退出，使得所述转移层的一些部分随着所述结构化工具分离，在所述转移层中留下穿过所述转移层一直延伸至所述基底的开口，从而形成具有所述预定图案的所述转移层。

主权项

一种形成基底的方法，所述基底的第一主表面上具有带预定图案的转移层，所述方法包括：提供在第一主表面上具有转移层的基底；提供具有主体和多个接触部分的结构化工具，所述接触部分的杨氏模量介于约0.5Gpa至约30Gpa之间；加热所述结构化工具或所述基底；使所述转移层与所述结构化工具接触；冷却所述转移层；并且从所述转移层退出所述结构化工具，使得所述转移层的一些部分随着所述结构化工具分离，在所述转移层中留下穿过所述转移层一直延伸至所述基底的开口，从而形成具有预定图案的转移层。