PROCEDE D'OBTENTION D'UN SUBSTRAT MUNI D'UN REVETEMENT

摘要

L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un substrat muni sur au moins une de ses faces d'un revêtement, comprenant une étape de dépôt dudit revêtement puis une étape de traitement thermique dudit revêtement à l'aide d'un rayonnement laser principal, ledit procédé étant caractérisé en ce qu'au moins une partie du rayonnement laser principal transmise au travers dudit substrat et/ou réfléchie par ledit revêtement est redirigée en direction dudit substrat pour former au moins un rayonnement laser secondaire.