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发明名称
High density plasma chemical vapor deposition apparatus using beat phenomenon and gap-fill method using the same
摘要
申请公布号
KR101183142(B1)
申请公布日期
2012.09.14
申请号
KR20060042029
申请日期
2006.05.10
申请人
发明人
分类号
H01L21/205
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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