| 摘要 |
Es ist ein Abscheidungskopf vorgesehen, der in der Lage ist, ein Materialgas mit einer gleichmäßigen Strömungsrate und äquithermen Eigenschaft von jeder Komponente in einem groß bemessenen Substrat sowie einem herkömmlichen klein bemessenen, zum Bilden eines gleichmäßigen Dünnfilms auszutragen. Es ist auch eine Abscheidungsvorrichtung vorgesehen, die den Abscheidungskopf umfasst. Der Abscheidungskopf ist innerhalb der Abscheidungsvorrichtung zum Bilden eines Dünnfilms auf einem Substrat vorgesehen und ausgestaltet, um ein Materialgas in Richtung des Substrats auszutragen. Der Abscheidungskopf umfasst ein äußeres Gehäuse und ein inneres Gehäuse, das innerhalb des äußeren Gehäuses vorgesehen ist und in das das Materialgas eingeleitet wird. In dem inneren Gehäuse ist eine Öffnung gebildet, die ausgestaltet ist, um das Materialgas in Richtung des Substrats auszutragen, und eine Heizung, die ausgestaltet ist, um das Materialgas zu erwärmen, ist an einer Außenfläche des äußeren Gehäuses oder in einem Raum zwischen dem äußeren Gehäuse und dem inneren Gehäuse vorgesehen.
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