发明名称 Abscheidungsverfahren für ein Dielektrikum mit einem Übergangs-Metall
摘要 Abscheidungsverfahren für ein Dielektrikum mit einem Übergangs-Metall, mit folgenden Schritten: Bereitstellen eines Substrats mit mindestens einem leitfähigen Abschnitt auf der Oberfläche, wobei der mindestens eine Abschnitt einer obersten Schicht des mindestens einen leitfähigen Abschnitts aus mindestens einem Material der Gruppe von Titanverbindungen, Titannitrid, Kohlenstoff, Tantalnitrid, Tantalkarbid, Wolfram, Ruthenium, Rutheniumoxid, Iridium, Iridiumoxid gebildet wird; aufeinanderfolgendes Anwenden eines ersten Precursors, der eine Übergangs-Metall Verbindung aufweist, und eines zweiten Precursors, der Wasserdampf aufweist, auf den mindestens einen leitfähigen Abschnitt zum Bilden einer ersten Schicht aus einem Übergangsmetall-haltigen Material, wobei ein Dotierstoff zusammen mit dem ersten Precursor angewandt wird, und wobei der DMetall, Titan, Hafnium, Tantal, Barium, Skandium, Yttrium, Lanthan, Niob, Wismut, Calcium und/oder Zerium aufweist; Abscheiden einer aus dem Dotierstoff gebildeten Schicht auf der ersten Schicht aus dem Übergangsmetall-haltigen Material; und aufeinanderfolgendes Anwenden des ersten Precursors und eines dritten Precursors, der Ozon und/oder Sauerstoff aufweist,...
申请公布号 DE102007005103(B4) 申请公布日期 2012.09.13
申请号 DE200710005103 申请日期 2007.02.01
申请人 QIMONDA AG 发明人 KUDELKA, STEPHAN;OBERBECK, LARS;SCHROEDER, UWE;BOESCKE, TIM;HEITMANN, JOHANNES;SAENGER, ANNETTE;SCHUMANN, JOERG;ERBEN, ELKE
分类号 H01L21/31;H01L21/822;H01L21/8242 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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