摘要 |
Abscheidungsverfahren für ein Dielektrikum mit einem Übergangs-Metall, mit folgenden Schritten: Bereitstellen eines Substrats mit mindestens einem leitfähigen Abschnitt auf der Oberfläche, wobei der mindestens eine Abschnitt einer obersten Schicht des mindestens einen leitfähigen Abschnitts aus mindestens einem Material der Gruppe von Titanverbindungen, Titannitrid, Kohlenstoff, Tantalnitrid, Tantalkarbid, Wolfram, Ruthenium, Rutheniumoxid, Iridium, Iridiumoxid gebildet wird; aufeinanderfolgendes Anwenden eines ersten Precursors, der eine Übergangs-Metall Verbindung aufweist, und eines zweiten Precursors, der Wasserdampf aufweist, auf den mindestens einen leitfähigen Abschnitt zum Bilden einer ersten Schicht aus einem Übergangsmetall-haltigen Material, wobei ein Dotierstoff zusammen mit dem ersten Precursor angewandt wird, und wobei der DMetall, Titan, Hafnium, Tantal, Barium, Skandium, Yttrium, Lanthan, Niob, Wismut, Calcium und/oder Zerium aufweist; Abscheiden einer aus dem Dotierstoff gebildeten Schicht auf der ersten Schicht aus dem Übergangsmetall-haltigen Material; und aufeinanderfolgendes Anwenden des ersten Precursors und eines dritten Precursors, der Ozon und/oder Sauerstoff aufweist,...
|
申请人 |
QIMONDA AG |
发明人 |
KUDELKA, STEPHAN;OBERBECK, LARS;SCHROEDER, UWE;BOESCKE, TIM;HEITMANN, JOHANNES;SAENGER, ANNETTE;SCHUMANN, JOERG;ERBEN, ELKE |