用于研磨大直径单晶片的研磨机

摘要

一种用于研磨大直径单晶片的研磨机，它包括：基座，基座上设有工作台，工作台的上方设有磨头装置，该装置包括驱动磨头的电机及可改变电机转速的皮带轮组及调节磨头上、下位置的手轮机构，工作台上置有研磨片槽，研磨片槽内的支架上垂直固定吸片装置，吸片装置包括真空吸盘，驱动吸盘旋转的电机、变速箱及皮带，研磨片槽设有排屑、排水口，工作台的下方设有手动调整单晶切片横向及纵向位置的滑轨及手轮组件，本机还包括真空泵和管路以及位于研磨机上方的照明设备，机器底部装有活动脚轮。本实用新型的优点是：为大直径单晶片(Φ≤400mm)的表面研磨提供了一种可操作的平台，可对大直径的、厚度较大的、重量较重的单晶样片表面进行研磨，保证单晶样片表面的研磨深度及研磨片表面的均匀性及平整度要求。

主权项

一种用于研磨大直径单晶片的研磨机，其特征在于：它包括：基座，基座上设有工作台，工作台的上方设有磨头装置，该装置包括驱动磨头的电机及可改变电机转速的皮带轮组及调节磨头上、下位置的手轮机构，工作台上置有研磨片槽，研磨片槽内的支架上垂直固定吸片装置，吸片装置包括真空吸盘，驱动吸盘旋转的电机、变速箱及皮带，研磨片槽设有排屑、排水口，工作台的下方设有手动调整单晶切片横向及纵向位置的滑轨及手轮组件，本机还包括真空泵和管路以及位于研磨机上方的照明设备，机器底部装有活动脚轮。