发明名称 |
痕量气体吸收池 |
摘要 |
本实用新型涉及气体检测仪器,公开了一种痕量气体吸收池,包括带有至少一透明视窗的池体,所述池体上设置有一气体入口和一气体出口,所述透明视窗设置有一入射光源,所述透明视窗设置有一光谱仪;所述的池体内长方向相对的一侧设置一主反射镜,另一侧设置有第一次反射镜和第二次反射镜;所述入射光源、主反射镜、第一次反射镜、第二次反射镜和光谱仪分别设置在:入射光源射出的光线射向第一次反射镜反射至主反射镜,再反射至第二次反射镜,而后反射至主反射镜再反射至第一次反射镜,最后反射至主反射镜再通过第二次反射镜射入光谱仪的位置。本实用新型具有增加了光程并增加气体在池体内的气体密度的优点。 |
申请公布号 |
CN202433295U |
申请公布日期 |
2012.09.12 |
申请号 |
CN201120508241.9 |
申请日期 |
2011.12.08 |
申请人 |
宇星科技发展(深圳)有限公司 |
发明人 |
孙岩;田耘 |
分类号 |
G01N21/03(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/03(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市精英专利事务所 44242 |
代理人 |
李新林 |
主权项 |
一种痕量气体吸收池,其特征在于:包括带有至少一透明视窗的池体,所述池体上设置有一气体入口和一气体出口,所述透明视窗设置有一入射光源,所述透明视窗设置有一光谱仪;所述的池体内长方向相对的一侧设置一主反射镜,另一侧设置有第一次反射镜和第二次反射镜;所述入射光源、主反射镜、第一次反射镜、第二次反射镜和光谱仪分别设置在:入射光源射出的光线射向第一次反射镜反射至主反射镜,再反射至第二次反射镜,而后反射至主反射镜再反射至第一次反射镜,最后反射至主反射镜再通过第二次反射镜射入光谱仪的位置。 |
地址 |
518000 广东省深圳市南山区高新技术产业园清华信息港研发楼B座301号 |