发明名称 |
可激光烧蚀元件及使用方法 |
摘要 |
一种用于直接激光刻版的可激光烧蚀元件,其具有可激光烧蚀的浮雕形成层,所述浮雕形成层具有浮雕图像形成表面和底面。该浮雕形成层包括可激光烧蚀聚合物粘合剂和红外辐射吸收化合物,所述红外辐射吸收化合物以一定的浓度分布存在以使其浓度在底面附近大于在图像形成表面附近。红外辐射吸收化合物的这种布置提供改善的烧蚀效率,特别是当绝热地进行激光曝光时。 |
申请公布号 |
CN102666100A |
申请公布日期 |
2012.09.12 |
申请号 |
CN201080059376.X |
申请日期 |
2010.10.12 |
申请人 |
伊斯曼柯达公司 |
发明人 |
C·J·兰德里-科尔特雷恩;M·S·伯贝里;D·佩查克;K·C·吴;L·W·塔特;L·A·罗利;L·M·弗兰克林 |
分类号 |
B41C1/05(2006.01)I;B41M5/24(2006.01)I |
主分类号 |
B41C1/05(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
刘辛;李炳爱 |
主权项 |
用于直接激光刻版的可激光烧蚀元件,其包含至少一个具有浮雕图像形成表面和底面的可激光烧蚀的浮雕形成层,该浮雕形成层包含可激光烧蚀聚合物粘合剂和红外辐射吸收化合物,所述红外辐射吸收化合物以一定的浓度分布存在以使其在底面附近的浓度大于在图像形成表面附近的浓度。 |
地址 |
美国纽约州 |