发明名称 薄膜晶体管
摘要 本发明提供一种薄膜晶体管,薄膜晶体管包括基板、栅极、栅绝缘层、主动层、源极、漏极,栅极设置于基板上,栅绝缘层覆盖栅极及基板,主动层设置于该栅绝缘层上,并位于栅极上方,源极和漏极分别设置于主动层上,且源极与源极相对设置;其中,栅绝缘层包括设置于栅极及基板上的第一栅绝缘层、在第一栅绝缘层之上的第二栅绝缘层,且第一栅绝缘层的膜质比第二栅绝缘层的膜质致密,因而,即使在切割或者制造过程中产生了静电,本发明的栅极与源极、漏极之间也不容易发生静电击穿的现象。
申请公布号 CN102664194A 申请公布日期 2012.09.12
申请号 CN201210102931.3 申请日期 2012.04.10
申请人 深超光电(深圳)有限公司 发明人 许民庆;吴钊鹏;黎昔耀;曹岩
分类号 H01L29/786(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一薄膜晶体管,包括:一基板;一栅极,设置于该基板上;一栅绝缘层,覆盖该栅极及该基板;一主动层,设置于该栅绝缘层上,并位于该栅极上方;一源极,设置于该主动层上;一漏极,设置于该主动层上,并与该源极相对设置;其中,该栅绝缘层包括设置于栅极及该基板上的第一栅绝缘层、在该第一栅绝缘层之上的第二栅绝缘层,且该第一栅绝缘层的膜质比该第二栅绝缘层的膜质致密。
地址 518109 广东省深圳市宝安区龙华街道办民清路深超光电科技园A栋