发明名称 |
用于使核反应器内界定冷却剂流动通道的润湿部份之传导性表面上荷电粒状物的沈积减少之方法以及在核反应器内界定冷却剂流动通道的设备 |
摘要 |
本案揭示一种减少荷电粒子在会定期地或实质连续地暴露于一核反应器中冷却剂流动路途内的高速流体流之润湿表面(100a、100b)上的静电沈积之方法。该方法包括在形成高速流动路途一部份之传导性表面上沈积第一或基底介电层(102)与第二或外面介电层(104)。该第一介电层材料系经选择成提供对该传导性表面之改良黏着且该第二介电层材料系经选择成提供对该第一介电层之适当黏着及在预期操作环境中的改良腐蚀及/或机械抗性。 |
申请公布号 |
TWI372398 |
申请公布日期 |
2012.09.11 |
申请号 |
TW094145566 |
申请日期 |
2005.12.21 |
申请人 |
通用电机股份有限公司 美国 |
发明人 |
凯萨琳 达卡;金荣长;罗杰辛 伊瑟罗尔;大卫 卫斯理 山达斯其;凯文 杰诺拉;彼得 布朗;萧天吉 |
分类号 |
G21C15/00;C23C16/40;C23C30/00 |
主分类号 |
G21C15/00 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |