发明名称 用于光罩电浆蚀刻之方法及设备
摘要 在此提供一种用于光罩蚀刻的离子-自由基屏蔽件。在一实施例中,离子-自由基屏蔽件包括一平坦的石英碟盘,其具有延伸穿过该碟盘之复数个孔。离子-自由基屏蔽件也包括三个螺纹化孔,该些螺纹化孔形成于离子-自由基屏蔽件之内,且被建构以嵌合用来支撑离子-自由基屏蔽件于一基材支撑座上方之多个脚。
申请公布号 TWI372426 申请公布日期 2012.09.11
申请号 TW095146522 申请日期 2005.04.06
申请人 应用材料股份有限公司 美国 发明人 库默亚杰;仙卓须德麦哈维;安德森史考特亚伦;沙特潘威夏彼得;邱伟帆
分类号 H01L21/3065;H01L21/308 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项
地址 美国