发明名称 |
用于光罩电浆蚀刻之方法及设备 |
摘要 |
在此提供一种用于光罩蚀刻的离子-自由基屏蔽件。在一实施例中,离子-自由基屏蔽件包括一平坦的石英碟盘,其具有延伸穿过该碟盘之复数个孔。离子-自由基屏蔽件也包括三个螺纹化孔,该些螺纹化孔形成于离子-自由基屏蔽件之内,且被建构以嵌合用来支撑离子-自由基屏蔽件于一基材支撑座上方之多个脚。 |
申请公布号 |
TWI372426 |
申请公布日期 |
2012.09.11 |
申请号 |
TW095146522 |
申请日期 |
2005.04.06 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 美国 |
发明人 |
库默亚杰;仙卓须德麦哈维;安德森史考特亚伦;沙特潘威夏彼得;邱伟帆 |
分类号 |
H01L21/3065;H01L21/308 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
代理机构 |
|
代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
|
地址 |
美国 |