发明名称 Photosensitive polyimide-based polymer, and positive type photoresist resin composition comprising the same
摘要
申请公布号 KR101179116(B1) 申请公布日期 2012.09.07
申请号 KR20090020367 申请日期 2009.03.10
申请人 发明人
分类号 C08G73/10;C08L79/08;G03F7/004 主分类号 C08G73/10
代理机构 代理人
主权项
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