发明名称 Verfahren zur Mehrstrahlbelichtung auf einem Ziel
摘要 Verfahren zum Bestrahlen eines Targets mittels eines Strahls energiereicher Strahlung, der aus elektrisch geladenen Teilchen gebildet ist, mit den Schritten: – Bereitstellen eines Musterdefinitionsmittels (102) mit einer Vielzahl von für die Strahlung transparenten Aperturen, – Beleuchten des Musterdefinitionsmittels mithilfe eines breiten Beleuchtungsstrahls (1b), der das Musterdefinitionsmittel durch die Aperturen durchsetzt und so einen strukturierten Strahl (pb) bildet, der aus einer entsprechenden Vielzahl von Teilstrahlen besteht, – Formen des strukturierten Strahls in ein Musterbild (43) am Ort des Targets (14, 41), wobei das Musterbild die Bilder zumindest eines Teils der Vielzahl von Aperturen umfasst, die auf eine entsprechende Anzahl von Bildelementen (p1, px) auf dem Target abgebildet werden, – Erzeugen einer Relativbewegung zwischen dem Target und dem Musterdefinitionsmittel, wodurch sich eine Bewegung des Musterbildes auf dem Target entlang eines Weges über ein Gebiet ergibt, in welchem eine Belichtung mit dem Strahl durchzuführen ist, was eine Anzahl von...
申请公布号 DE11450032(T1) 申请公布日期 2012.09.06
申请号 DE11450032T 申请日期 2011.03.09
申请人 IMS NANOFABRICATION AG 发明人 PLATZGUMMER, ELMAR
分类号 H01J37/317 主分类号 H01J37/317
代理机构 代理人
主权项
地址