| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Anpassen des Gitterparameters einer Keimschicht (3) aus verspanntem Material, das die folgenden aufeinanderfolgenden Schritte umfasst: a) es wird eine Struktur geschaffen, die eine Keimschicht (3) aus verspanntem Material, mit einem Gitterparameter A, einem Nenn-Gitterparameter An und einem Wärmeausdehnungskoeffizienten CTE, eine Schicht (2) niedriger Viskosität und ein Zwischensubstrat (1) mit einem Wärmeausdehnungskoeffizienten CTE1 aufweist; b) eine Wärmebehandlung wird durchgeführt, um die Keimschicht (3) aus verspanntem Material zu entspannen; und c) die Keimschicht (3) wird auf ein Trägersubstrat (5) mit einem Wärmeausdehnungskoeffizienten CTE5 übertragen, wobei das Zwischensubstrat (1) und das Trägersubstrat (5) so gewählt werden, dass A1 < An und CTE1 ≤ CTE3 und CTE5 > CTE1 oder A1 > An und CTE1 ≥ CTE3 und CTE5 < CTE1.
|
