发明名称 |
镀膜基板及镀膜设备 |
摘要 |
本实用新型属于显示技术领域,特别是涉及便于基板边缘识别的镀膜基板及镀膜设备。本实用新型镀膜设备包括靶材和基板夹具位于靶材的下方,基板夹具包括上夹板和下托板;上夹板和下托板之间有压力调节装置,用于调节上夹板和下托板夹紧基板的压力。通过调节上夹板与基板之间的压力,使所镀膜层边缘截面呈斜坡形,斜坡的长度大于800μm。降低了膜层边缘的厚度梯度,使透过膜层边缘的光亮度梯度发生显著变化,区别于基板边缘透过的光亮度梯度,进而提高了基板边缘识别率。 |
申请公布号 |
CN202423273U |
申请公布日期 |
2012.09.05 |
申请号 |
CN201220040591.1 |
申请日期 |
2012.02.08 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
张尚明 |
分类号 |
H01L23/544(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/544(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
韩国胜;王莹 |
主权项 |
一种镀膜基板,在基板上覆盖有膜层,其特征在于,所述膜层的边缘截面呈斜坡形,斜坡的长度大于800μm。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |