发明名称 |
等离子体约束装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种等离子体约束装置,其设置于等离子体处理装置的处理区域和排气区域之间,等离子体约束装置包含环形本体,环形本体上设有若干导气通道;该环形本体沿其径向由内径向外径依次分为内径区域、中间区域和外径区域;分布在环形本体内径区域的导气通道的开口大小大于分布在中间区域的导气通道的开口大小,分布在外径区域的导气通道的开口大小大于分布在中间区域的导气通道的开口大小。本实用新型采用内外径区域导气通道大于中间区域导气通道的结构,不仅能将等离子体约束在处理区域内,减少因等离子体扩散而引起的反应腔污染问题,而且可以大大增加反应腔的排气效率,减少使用过的反应气体和副产品气体停留在反应腔内的时间。 |
申请公布号 |
CN202423213U |
申请公布日期 |
2012.09.05 |
申请号 |
CN201120470227.4 |
申请日期 |
2011.11.23 |
申请人 |
中微半导体设备(上海)有限公司 |
发明人 |
彭帆;吴狄;周宁;邱达燕 |
分类号 |
H01J37/32(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01)I |
代理机构 |
上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 |
代理人 |
张静洁;徐雯琼 |
主权项 |
一种等离子体约束装置,其设置于等离子体处理装置(1)的处理区域(2)和排气区域(7)之间,所述的等离子体约束装置包含环形本体(8),该环形本体(8)上设有若干导气通道;其特征在于,所述的环形本体(8)沿其径向由内向外依次分为内径区域(81)、中间区域(82)和外径区域(83);分布在所述环形本体内径区域(81)的导气通道的开口大小大于分布在所述中间区域(82)的导气通道的开口大小,分布在所述外径区域(83)的导气通道的开口大小大于分布在所述中间区域(82)的导气通道的开口大小。 |
地址 |
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号 |