| 发明名称 | 减少由成像系统递送的辐射剂量的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及减少由成像系统递送的辐射剂量的方法。在一个实施例中，提供减少由成像系统递送的辐射剂量的方法。该方法包括下列步骤：基于要遮盖的器官的形状选择虚拟遮罩表示(102)，在定位图像上显示该虚拟遮罩表示(104)，并且操纵要递送的辐射剂量(106)以便修改该虚拟遮罩表示来获得最佳衰减轮廓。 | ||
| 申请公布号 | CN102652676A | 申请公布日期 | 2012.09.05 |
| 申请号 | CN201210066188.0 | 申请日期 | 2012.03.05 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | A·K·钱德拉谢卡拉帕;P·吉里;G·马尼;Y·伊梅;H·奥诺德拉 |
| 分类号 | A61B6/03(2006.01)I | 主分类号 | A61B6/03(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 张金金;朱海煜 |
| 主权项 | 一种减少由成像系统递送的辐射剂量的方法，所述方法包括：基于要遮盖的器官的形状选择虚拟遮罩表示(102)；在定位图像上显示所述虚拟遮罩表示(104)；以及操纵要递送的辐射剂量(106)以便修改所述虚拟遮罩表示来获得最佳衰减轮廓。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||