发明名称 阵列基板及其制造方法和显示装置
摘要 本发明提供一种阵列基板及其制造方法和显示装置,涉及显示技术领域,降低阵列基板生产难度,简化了阵列基板的制造工艺,降低了生产成本。一种阵列基板,包括:位于基板上的顶栅底接触构型的薄膜晶体管,薄膜晶体管的栅极与栅线连接,源极与数据线连接,漏极与像素电极连接。一种阵列基板的制造方法,包括:通通过第一次构图工艺在基板上形成包括源漏电极、像素电极和数据线的图形;通过第二次构图工艺形成包括半导体层、栅极绝缘层、栅极和栅线的图形;通过第三次构图工艺形成包括钝化层和钝化层过孔的图形。一种显示装置,包括上述的阵列基板。
申请公布号 CN102655155A 申请公布日期 2012.09.05
申请号 CN201210046972.5 申请日期 2012.02.27
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 张学辉
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种阵列基板,包括:基板,以及位于所述基板上的栅线、数据线、薄膜晶体管和像素电极,其特征在于,所述薄膜晶体管为顶栅底接触构型的薄膜晶体管,所述顶栅底接触构型的薄膜晶体管的栅极与所述栅线连接,源极与所述数据线连接,漏极与所述像素电极连接。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号