基板蚀刻设备和方法

摘要

一种设备，其包括：蚀刻容器、多个气泡注入器和气体供应部分。所述蚀刻容器容纳多个玻璃基板，使所述玻璃基板在所述蚀刻容器中垂直于所述蚀刻容器的底部设置并相互平行。每一所述气泡注入器插置于每一所述玻璃基板之间，用于向所述玻璃基板上注入气泡。所述气体供应部分设置于所述蚀刻容器外部，用于向所述气泡注入器提供气体。因此，可以向所述玻璃基板上均匀喷注气泡，从而对玻璃基板进行均匀蚀刻。

主权项

一种基板蚀刻设备，包括：蚀刻容器，其容纳多个玻璃基板，使所述玻璃基板在所述蚀刻容器中垂直于所述蚀刻容器的底面设置并相互平行；多个气泡注入器，相邻的玻璃基板之间插置一个气泡注入器，从而向所述玻璃基板上喷注气泡；以及气体供应部分，其设置于所述蚀刻容器外部，用于向所述气泡注入器提供气体，其中，每一所述气泡注入器包括：框架，其具有形成于所述框架的中央部分的开口部分；第一通管，其设置于所述框架内并连接至所述气体供应部分；以及第二通管，其以固定间隔垂直连接至所述第一通管，从而遍布所述开口，所述第二通管具有对应于每一所述玻璃基板的相对表面形成的多个注入孔。